W. L. Gore & Associates brings decades of unique materials science technology and in-depth application knowledge to the semiconductor industry. Find out where our advanced capabilities are used throughout semiconductor manufacturing processes — from front end to back end.

With decades of unique materials science technology and in-depth application knowledge, W. L. Gore & Associates offers proven solutions that ensure cleanliness, durability and reliability. Find out where our technologies are used throughout semiconductor manufacturing processes.

ゴアのオゾン溶解モジュールは、半導體および電子機器産業の洗浄プロセスのパフォーマンスを向上させる、頼性の高いソリューションであることが実証されています。1980年代以降、當社のモジュールは、より安全で環境にやさしく、費用対効果の高い洗浄プロセスとして、オゾン水を用いた洗浄裝置に使用されてきました。

Ozone-dissolving modules from W. L. Gore & Associates are the proven, reliable solution for improved semiconductor and microelectronics cleaning process performance and yield. Since the 1980s, our modules have been successfully used in ozone water-based cleaning tools for a safer, environmentally friendly, cost-effective cleaning process.

When it comes to silicon wafer and semiconductor cleaning processes, the industry is shifting to ozone water treatment. It’s friendlier to the environment, doesn’t involve expensive waste treatment and costs less than chemical mixtures. Fortunately, GORE Ozonation Modules from W. L. Gore & Associates go beyond the current benchmark by delivering the cleanest, bubble-free, highest concentration ozone water solution on the market today.

就硅晶圓和半導體清洗工藝而言，業內正在改用臭氧水處理方案。這種方案更環保，不涉及昂貴的廢物處理，成本比化學混合物清洗工藝更低。可喜的是，戈爾公司(W. L. Gore & Associates)提供的GORE臭氧化模組比目前市場上的溶解臭氧方案更勝一籌，提供目前市場上更潔凈、無氣泡且濃度更高的臭氧水制備方案。戈爾模組久經驗證，是改進半導體晶圓清洗和平板顯示器制造工藝、更環保的可靠解決方案。

如需了解更多技術信息，請下載數據表或立即聯系戈爾銷售代表。

シリコンウエハーおよび半導體の洗浄プロセスでは、業界としてオゾン水処理へのシフトが進んでいます。混合薬液よりも環境に配慮されており、廃液処理を必要としないため、低コストで処理することができます。ゴアのオゾネーションモジュールは、今日のマーケットにおいて、高清浄度、無気泡（バブルフリー）、高濃度のオゾン水溶液を生成する唯一のモジュールです。このモジュールは、半導體ウエハー洗浄とフラットパネルディスプレイ（FPD）の製造プロセスを向上させる、信頼性が高く、より環境に配慮したソリューションであることが実証されています。

さらに詳しい技術情報については、データシートをダウンロードするか、こちらよりゴアの擔當者にお問い合わせください。